Instrument Information

儀器資訊

  • 校內單位 4,000元/2hrs +30元/min
  • 校外學術單位 5,000元/2hrs +40元/min
  • 校外非學術單位 5,000元/2hrs +40元/min
  • 中文名稱: 超高真空磁控濺鍍系統
  • 英文名稱 UHV magnetron sputtering system
  • 廠牌及型號 聚昌科技股份有限公司
  • 重要規格 1.3 UHV cathodes 2.1 RF POWER SUPPLY (300W), 1 DC POWER SUPPLY (500W)3.GROWTH TEMPERATURE: R.T.~ 900℃
  • 廠商連結
  • 開放時段
  • 系所單位 應用物理學系
  • 放置地點 理工二514-1 磁性半導體實驗室II
  • 服務項目 1. RF濺鍍成長ZnO film.2. DC濺鍍成長Cr film或Mn film
  • 儀器管理員 胡裕民
  • 聯絡電話 7468
  • Email ymhu@nuk.edu.tw
  • 其他 可以自行操作
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